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microArch S240A 10μm高精度微納3D打印系統基于BMF摩方的技術?面投影微立體光刻技術（PμSL）構建，并融入了摩方自主開發(fā)的多項技術。摩方PμSL是一種微米級精度的3D光刻技術，這一技術利用液態(tài)樹脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快 速涂層技術大大降低每層打印的時間，并通過打印平臺三維移動逐層累積成型制作出復雜三維器件。

摩方超高精度光固化3d打印機microArch® S230 2μm高精度微納3D打印系統，基于BMF摩方的技術?面投影微立體光刻技術（PμSL）構建。全自動水平調節(jié)系統：平臺自動調平、膜面自動調平、滾刀自動調節(jié)三大系統，打印效率提升近50倍。

Exaddon CERES是基于電化學沉積（Electrochemical Deposition）技術推出的微納金屬3D打印系統，可以在室溫下以亞微米級分辨率打印超高精密金屬器件，且無需進行后處理。該系統非常適用于生物傳感、高頻通訊器件、微流控、傳熱和微機械等領域的創(chuàng)新研究。

摩方精密復合精度光固化3D打印機 D1025，復合光學精度：10μm和25μm，打印幅面：100 mm(L)x100 mm(W)x50 mm(H)，極限微尺度復合樹脂增材制造設備。

摩方精密復合精度光固化3D打印系統microArch® D0210，復合光學精度：2μm和10μm，打印幅面：100 mm(L)x100 mm(W)x50 mm(H)，極限微尺度復合樹脂增材制造設備。